LPCVD

化学计量比Si₃N₄沉积

折射率：1.97@1550 nm

粗糙度：Rq=0.18 nm

LPCVD

低应力SiNx

折射率：2.0-2.2@1550 nm

粗糙度：Rq=0.23 nm

LPCVD

非晶Si

折射率：3.75@1550 nm

粗糙度： Rq=0.25 nm

ALD

Er掺杂Al2O3沉积

 掺Er浓度可调

ALD

SiO₂沟槽填充

 深宽比：5:1

ICP-CVD

不同折射率SiNx沉积

折射率：2.0-3.0@1550 nm